事業創造学部 近藤 正幸教授のコラムが、7月5日(水)の日経産業新聞「Techno Salon」に掲載されました。
「インド拠点の研究開発、国際連携に特徴」と題し、インドで研究開発を行っている日米独企業のグローバル・イノベーション・ネットワーク形態の分析結果について述べられています。
ぜひご覧ください。
■事業創造学部 近藤 正幸教授
スタンフォード大学大学院修了。通商産業省（現経済産業省）、世界銀行、英国王立国際問題研究所、横浜国立大学大学院などで勤務。横浜国立大学名誉教授、日経産業新聞Techno Salonコラムニスト。博士（学術）。