事業創造学部 近藤 正幸教授のコラムが、10月5日(水)の日経産業新聞「Techno Salon」に掲載されました。
「海外の頭脳活用に日本の活路」と題し、海外での研究開発がもたらすよい効果と、日本企業の活発になってきた海外の発明者を生かしたイノベーションの重要性等について述べられています。
ぜひご覧ください。
■事業創造学部 近藤 正幸教授
スタンフォード大学大学院修了。通商産業省（現経済産業省）、世界銀行、英国王立国際問題研究所、横浜国立大学大学院などで勤務。横浜国立大学名誉教授、日経産業新聞Techno Salonコラムニスト。博士（学術）。