事業創造学部 近藤 正幸教授のコラムが、2月14日(水)の日経産業新聞「Techno Salon」に掲載されました。
「発明者、活躍の場は世界の企業に」と題し、海外企業と日本の技術者との相互協力、また日本企業と海外の技術者がどう関係を築いているのかについて述べられています。
ぜひご覧ください。
■事業創造学部 近藤 正幸教授
スタンフォード大学大学院修了。通商産業省（現経済産業省）、世界銀行、英国王立国際問題研究所、横浜国立大学大学院などで勤務。横浜国立大学名誉教授、日経産業新聞Techno Salonコラムニスト。博士（学術）。